9月初，孟谦又去了一趟霓虹国，跟索尼签署了一份秘密文件，达成了战术同盟协议，两家公司将携手一起先干三星，当大家出现利益冲突的时候，一切以先干三星为主，之后索尼跟大风集团再竞争。
虽然此时的三星其实已经很难倒塌了，毕竟有高丽国撑着，但能利用各种方法压一压三星的发展也是好的，因为孟谦最在意的并不是三星有多强大，而是未来自己跟米国全面对抗的时候，三星这个家伙很可能会像当初捅霓虹国一样来捅华夏。
这一世，至少，绝对不能让三星在华夏影响太深。
这次来霓虹国，除了跟索尼谈战术合作的事情，孟谦还有一件很重要的事情要做，这个事情跟光刻机有关。
米国这边由英特尔牵头开始搞大规模EUV光刻机研究已经有一段时间，时不时的冒出一些消息来让人觉得下一代光刻机是米国的……
不过在下一代光刻机的发展上孟谦确实也要多上点心了，最近沪上微电子那边给孟谦传来了很多坏消息，好多技术都搞不定。
所以，孟谦需要加快一些事情的发展。
这里就不得不稍微提一点关于EUV的历史，孟谦以前看过一篇文章说：EUV光刻技术在1999年被国际半导体技术发展路线图确定为下一代光刻首选技术，这就意味着，谁如果不参与到EUV光刻技术研发，谁就将在下一代芯片竞赛中自动弃权。
为了确定这个事情，孟谦好不容易找到了1999年的国际半导体技术发展路线图原文，压根没有这句话，连类似的话也没有……
相反，按照当时的记载，1999年那会儿关于下一代光刻技术的猜想有四个，分别是157nm F2激光，电子束投射（EPL），离子投射（IPL）以及EUV和X光，因为EUV属于软X光，所以和X光的研究算在一个领域。
当时研究全球研究EUV的企业和机构确实超过200家，但研究157nm F2激光的企业和机构超过300家……
而且绝大部分企业和机构都是多个方向一起研发，尤其是IBM，四个方向一起研发。
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